- 鎢鉬鉭鈮錸難熔金屬材料全系列、彌散銅、硬質(zhì)合金
產(chǎn)品中心
鉬濺射靶材(Sputtering Targets)
用途:
濺射靶材用于磁控濺射鍍膜，濺射鍍膜是一種新型的物理氣相鍍膜(PVD)方式。
在被濺射的靶極(陰極)與陽極之間加一個(gè)正交磁場(chǎng)和電場(chǎng)，在高真空室中充入所需要的惰性氣體(通常為Ar氣)，在電場(chǎng)的作用下，Ar氣電離成正離子和電子， 靶上加有一定的負(fù)高壓，從靶極發(fā)出的電子受磁場(chǎng)的作用與工作氣體的電離幾率增大，在陰極附近形成高密度的等離子體，Ar離子在洛侖茲力的作用下加速飛向靶面， 以很高的速度轟擊靶面，使靶上被濺射出來的原子遵循動(dòng)量轉(zhuǎn)換原理以較高的動(dòng)能脫離靶面飛向基片淀積成膜。
濺射鍍膜的主要應(yīng)用于：平板顯示器、鍍膜玻璃工業(yè)(主要包括建筑玻璃、汽車玻璃、光學(xué)薄膜玻璃等)、薄膜太陽能、 表面工程(裝飾&工具)、（磁、光）記錄介質(zhì)、微電子、汽車車燈、裝飾鍍膜等。
規(guī)格:
可以根據(jù)用戶的要求提供以下尺寸的鉬濺射靶材:
板靶材: 單重:≤200kg/pc, 純度:≥99.95%
管靶材: 長度:≤Φ165mmΧ1000mm ,純度:≥99.95%
