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技術探討

內氧化法制備Al2O3彌散強化銅合金及其組織與性能

  • 作者 岳燦甫，王永朝，郭海霞，雷竹芳，陳會東
采用內氧化法用霧化銅鋁合金粉制備出了鋁含量(質量分數)分別為0．15％、0．25％、0．35％的3種氧 化鋁彌散強化銅合金。研究了A1203彌散強化銅合金的組織與性能。結果表明，彌散銅合金的晶粒細小，晶粒 大小在0．2～1腳之間；內氧化工藝生成的細小氧化鋁質點在晶粒內部呈彌散分布，其平均直徑小于20nm。 0．35％～含量的彌散強化銅合金抗拉強度為600艘a，電導率為83％IACS，滿足了CuCrZr電阻焊電極的要求， 司以作為CuCrZr電阻焊電極的替代材料。
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彌散銅內氧化動力學


  • 作者 申玉田，崔春翔，吳人潔，徐艷姬，孟凡斌
對Cu-Al合金的內氧化工藝及其動力學進行了系統(tǒng)研究。結果表明: 本實驗條件下以1223K, 015h 內氧化 工藝所得材料的性能最佳, 其顯微組織特征是Cu基體上均勻彌散分布著納米級Al2O3粒子。理想條件的內氧化初 期和實際條件下的內氧化動力學曲線服從拋物線規(guī)律。溫度、時間、Cu-Al合金粉顆粒半徑和Al濃度是實際內氧化 控制的4 要素, 它們間的函數關系近似滿足下式: t=6179R2CBexp (23251/T)。實際內氧化時間不宜過長, 內氧化溫 度應該: 1123K< T ≤1223K。
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Al2O3高純銅濺射靶材的發(fā)展及現(xiàn)狀


  • 作者 禹澤海，孫鵬，汪春平，楊艷
簡要介紹了高純銅濺射靶材目前的市場情況、現(xiàn)狀、應用領域和未來高純銅濺射靶材發(fā)展趨勢; 并對高 純銅濺射靶材的特性要求以及微觀組織控制做了簡單的闡述。 
 
 
 
 
 
 
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