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    1. 太陽(yáng)能及平板顯示用濺射靶材應(yīng)用

      太陽(yáng)能及平板顯示用濺射靶材

      Sputtering Target for Flat Panel & Solar Energy

      產(chǎn)品應(yīng)用

      使用磁控濺射方法,微小的鉬金屬顆粒從鉬靶材中汽化,隨后沉積在玻璃襯底上形成薄膜。鉬涂層是TFT-LCD屏幕的薄膜晶體管的重要組成部分。通過(guò)鉬涂層,能夠瞬間控制個(gè)體圖像點(diǎn)(像素),從而確保特別清晰的圖像質(zhì)量。鉬涂層同樣應(yīng)用于CIGS太陽(yáng)能電池的靜合觸點(diǎn)。

      材料介紹

      鉬具有高熔點(diǎn)、高電導(dǎo)率、較低的比阻抗、較好的耐腐蝕性以及良好的環(huán)保性能,使得鉬濺射靶可在各類基材上形成薄膜,這種濺射薄膜廣泛應(yīng)用于電子部件和電子產(chǎn)品。



      產(chǎn)品規(guī)格

      我們可以提供目前全世代生產(chǎn)線的鉬靶材產(chǎn)品:

      產(chǎn)品世代

      靶材尺寸(mm)

      G8.5

      2650*210*18

      G7

      2300*200*16

      G6

      1950*200*16

      G5.5/5

      1950*1580*14/1700*1431*14

      G4

      1200*1130*10

      G3

      950*860*16


      同時(shí)我們可以提供全世代線鉬旋轉(zhuǎn)靶,也可以提供綁定完成的整體靶。