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太陽能及平板顯示用濺射靶材應用

太陽能及平板顯示用濺射靶材

Sputtering Target for Flat Panel & Solar Energy

產(chǎn)品應用

使用磁控濺射方法,微小的鉬金屬顆粒從鉬靶材中汽化,隨后沉積在玻璃襯底上形成薄膜。鉬涂層是TFT-LCD屏幕的薄膜晶體管的重要組成部分。通過鉬涂層,能夠瞬間控制個體圖像點(像素),從而確保特別清晰的圖像質量。鉬涂層同樣應用于CIGS太陽能電池的靜合觸點。

材料介紹

鉬具有高熔點、高電導率、較低的比阻抗、較好的耐腐蝕性以及良好的環(huán)保性能,使得鉬濺射靶可在各類基材上形成薄膜,這種濺射薄膜廣泛應用于電子部件和電子產(chǎn)品。



產(chǎn)品規(guī)格

我們可以提供目前全世代生產(chǎn)線的鉬靶材產(chǎn)品:

產(chǎn)品世代

靶材尺寸(mm)

G8.5

2650*210*18

G7

2300*200*16

G6

1950*200*16

G5.5/5

1950*1580*14/1700*1431*14

G4

1200*1130*10

G3

950*860*16


同時我們可以提供全世代線鉬旋轉靶,也可以提供綁定完成的整體靶。