產(chǎn)品應用

半導體離子注入技術是一種材料表面改性高新技術，在半導體材料摻雜，金屬、陶瓷、高分子聚合物等的表面改性上獲得了極為廣泛的應用，在當代制造大規(guī)模集成電路中，可以說是一種必不可少的手段。

用能量為100keV量級的離子束入射到材料中去，離子束與材料中的原子或分子將發(fā)生一系列物理的和化學的相互作用，入射離子逐漸損失能量，最后停留在材料中，并引起材料表面成分、結構和性能發(fā)生變化，從而優(yōu)化材料表面性能，或獲得某些新的優(yōu)異性能。

材料介紹

星耀新材離子注入機用鎢鉬產(chǎn)品具有穩(wěn)定的高純度，良好的力學性能，以保證適合加工形狀復雜的弧室零部件。

高純度鎢鉬弧室是半導體芯片良率的基本保障，星耀新材的高性能離子注入Source Head鎢鉬部件又極大降低了機臺維護頻率，保證了客戶產(chǎn)能，是客戶最佳產(chǎn)品選擇。

我公司生產(chǎn)的如下材料可廣泛應用于半導體離子注入部件: