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半導(dǎo)體離子注入部件應(yīng)用

半導(dǎo)體離子注入部件

Semiconductor Ion Implantation Parts

產(chǎn)品應(yīng)用

半導(dǎo)體離子注入技術(shù)是一種材料表面改性高新技術(shù),在半導(dǎo)體材料摻雜,金屬、陶瓷、高分子聚合物等的表面改性上獲得了極為廣泛的應(yīng)用,在當代制造大規(guī)模集成電路中,可以說是一種必不可少的手段。

用能量為100keV量級的離子束入射到材料中去,離子束與材料中的原子或分子將發(fā)生一系列物理的和化學的相互作用,入射離子逐漸損失能量,最后停留在材料中,并引起材料表面成分、結(jié)構(gòu)和性能發(fā)生變化,從而優(yōu)化材料表面性能,或獲得某些新的優(yōu)異性能。


材料介紹

星耀新材離子注入機用鎢鉬產(chǎn)品具有穩(wěn)定的高純度,良好的力學性能,以保證適合加工形狀復(fù)雜的弧室零部件。

高純度鎢鉬弧室是半導(dǎo)體芯片良率的基本保障,星耀新材的高性能離子注入Source Head鎢鉬部件又極大降低了機臺維護頻率,保證了客戶產(chǎn)能,是客戶最佳產(chǎn)品選擇。

我公司生產(chǎn)的如下材料可廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體離子注入部件: