MOCVD Epitaxial Equipment
產(chǎn)品應(yīng)用:
MOCVD是一種利用有機(jī)金屬分解反應(yīng)進(jìn)行氣相外延生長薄膜的化學(xué)氣相沉積技術(shù)。為了生長出多組分、大面積、薄層和超薄層化合物半導(dǎo)體材料, MOCVD設(shè)備除了要考慮系統(tǒng)密封性、流量、組分變換迅速等,最重要的是反應(yīng)腔的溫度控制。MOCVD腔體溫度控制精度需達(dá)到0.2℃或更高,高的溫度均勻性也是產(chǎn)品良率的重要保證。
材料介紹:
因?yàn)殒u、鉬、錸等難熔金屬材料具有耐高溫、低污染、優(yōu)異的耐蠕變性能、較高的尺寸穩(wěn)定性、膨脹系數(shù)低、可焊接性能等優(yōu)勢(shì),所以被廣泛用做MOCVD加熱器的加熱絲、隔熱屏、導(dǎo)電板等零部件。
錸加熱絲
- 錸板,錸片,錸棒
- 鎢棒、鎢板、鎢箔、鎢絲
- 客戶定制鎢異型制品
- 客戶定制鉬異型制品
產(chǎn)品規(guī)格: