產(chǎn)品應用:

MOCVD是一種利用有機金屬分解反應進行氣相外延生長薄膜的化學氣相沉積技術。為了生長出多組分、大面積、薄層和超薄層化合物半導體材料， MOCVD設備除了要考慮系統(tǒng)密封性、流量、組分變換迅速等，最重要的是反應腔的溫度控制。MOCVD腔體溫度控制精度需達到0.2℃或更高，高的溫度均勻性也是產(chǎn)品良率的重要保證。

材料介紹:

因為鎢、鉬、錸等難熔金屬材料具有耐高溫、低污染、優(yōu)異的耐蠕變性能、較高的尺寸穩(wěn)定性、膨脹系數(shù)低、可焊接性能等優(yōu)勢，所以被廣泛用做MOCVD加熱器的加熱絲、隔熱屏、導電板等零部件。
錸加熱絲

- 錸板，錸片，錸棒
- 鎢棒、鎢板、鎢箔、鎢絲
- 客戶定制鎢異型制品
- 客戶定制鉬異型制品

產(chǎn)品規(guī)格: